マグネトロン スパッタリング

スパッタによるコーティングは、装飾や低放射率ガラスから、今日最もニーズの高い製品の機能性コーティングまで多様なアプリケーションの薄膜生成で使われています。生成された薄膜の特性、スパッタ ターゲットの使用率の最適化は、最終製品の性能や生産工程の経済性に大きく寄与します。Operaは、プラズマ、スパッタ、薄膜生成の詳細なモデル化と高精度の有限要素法を融合し、マグネトロンスパッタリングの設計と最適化を行う業界初の実用的ツールです。

マグネトロン設計者やコーティング技術者は、最初に効果的なシミュレーションツールを利用します。エンジニアリングや製品設計など多くの分野では、そのようなツールによって、性能の向上、コスト削減、開発期間の短縮、競争力を高める技術革新を促進させています。
スパッタの薄膜生成プロファイル

Sputter Deposition Profile

マグネトロン設計に特化したOperaのシミュレーションには以下のような解析が含まれます:
・先進的有限要素法を用いた完全な3次元システムの評価と設計
・シミュレーション中での磁場計算
・複数のマグネトロン薄膜生成環境において近接のマグネトロンからの浮遊磁場の影響を含める
・空間電荷効果、相対論を含む整合性のとれた荷電粒子モデル
・設計の多様性に対して素早く評価
・複数の変数、複数の目標を可能にする最適化

Simulation vs measured profile

Simulation vs measured profile, courtesy of Miba Coating Group, Teer Coatings Ltd Droitwich, UK

Operaでは、以下の予測、最適化が可能です。
・エロージョン溝のプロファイル
・ターゲット使用率
・基板コーティングプロファイル
・コーティング過程-特性と品質

Graph of simulation vs measured profile

Graph of simulation vs measured profile, courtesy of Miba Coating Group, Teer Coatings Ltd Droitwich, UK

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